Восстановление и укрепление рабочих поверхностей методом магнетронного распыления

Технология магнетронного распыления представляет собой эффективный метод восстановления и упрочения рабочих поверхностей путем нанесения вакуумного покрытия. Метод дает возможность наносить на рабочую поверхность, с помощью магнитного поля, покрытий из различных типов материалов металлов, высокопрочных сплавов, керамики и многих других химических соединений, обладающих уникальными характеристиками. 

Суть процесса заключается в осаждении на подложке материала мишени в среде газовой плазмы, которая генерируется в ограниченном пространстве вакуумной камеры. При этом поверхность мишени бомбардируется высокоэнергетическими ионами, в результате чего освобожденные атомы материала мишени, проходя через вакуумную среду, осаждаются на рабочей поверхности, образуя на ней тонкую пленку с необходимыми параметрами.

Область применения метода магнетронного распыления постоянно расширяется. В настоящее время метод эффективно применяется для:

• нанесения металлических покрытий на рабочую поверхность деталей, увеличивая их устойчивость к царапинам, механическим повреждениям и долговечность в эксплуатации;
• нанесения покрытия на жесткие диски в компьютерной технике;
• нанесения тонких пленок в микроэлектронике при изготовлении полупроводниковых элементов и интегральных микросхем;
• нанесение диэлектрических материалов при изготовлении изоляторов;
• нанесение покрытий на текстильные ткани с целью обеспечения антистатических, противомикробных, электропроводящих и других свойств;
• нанесения декоративных покрытий на самые различные материалы, включая стекло и керамику.

Применение магнетронного распыления гораздо предпочтительнее перед другими методами нанесения тонких пленок благодаря таким качествам, как:

• гораздо более высокая скорость осаждения материала покрытия;
• минимальный процент повреждения пленки при выполнении технологического процесса;
• возможность организации распыления для гораздо большей номенклатуры материалов;
• гораздо более высокая адгезия напыляемого материала с подложкой;
• высокая степень чистоты, плотности и однородности наносимого покрытия;
• возможность контроля и изменения параметров покрытия во время производственного процесса;
• возможность одновременного напыления различных металлов, сплавов и оксидов;
• низкая температура технологического процесса позволяет выполнять напыление на самые различные материалы;
• возможность автоматизации и индустриализации производственного процесса.

Обязательным условием для напыления тонких пленок с высокими техническими характеристиками является обеспечение достаточно глубокого вакуума.

Опытный завод спецэлектрометаллургии, имеет возможность проектирования и изготовления вакуумных камер различного объема для обеспечения необходимого вакуума. Специалисты предприятия гарантируют качественное и своевременное выполнение заказов по изготовлению вакуумных камер и другого необходимого высокотехнологичного оборудования для обеспечения производственного процесса магнетронного распыления.